在半导体制程中,光刻工艺是核心环节,而光刻胶与光刻机则是光刻工艺中的两大技术门槛。尽管国内设备厂商正在努力研发,但目前大部分光刻机技术仍依赖于国外品牌。光刻机在市场上非常抢手,但即便拥有光刻机,也不能随意在FAB(晶圆厂)中摆放。
光刻机为什么不能随意摆放?
光刻机的精密操作对环境洁净度有着近乎苛刻的要求。光刻机在进行光刻工艺时,对环境中的分子污染物(AMC)极其敏感。即使是微小的杂质,也可能对光刻过程造成严重影响。
以荷兰某大厂的光刻机为例,就明确要求安装光刻机的厂商在其环境与使用的压缩气体中不能含有酸性物质、碱性物质、氨气、硫化物、沉降型有机物质与非沉降型有机物质等杂质。
在SEMI F21无尘室环境分子污染物分级标准中,也明确规定了酸性物质、碱性物质、沉降型有机物质、参杂性物质与金属颗粒等杂质的控制要求。同时,ISO14644洁净室和相关受控环境洁净室标准中的第8部分,更是用化学浓度(ACC)来评估空气清洁度,从而规范了洁净室中这些气态杂质对制程的影响性。
随着半导体晶圆越来越微小化和平面显示器尺寸巨大化,制程产品正面临微量污染物的严重威胁。因此,对于无尘室生产环境的洁净度要求也越来越严格和重要。虽然目前AMC(空气分子污染物)的污染浓度并未与洁净室等级形成直接关系,但其对制程的影响却是不容忽视的。
如何进行洁净室AMC测试?
在洁净室AMC(空气污染物控制)测试中,通常使用空气采样器和气相色谱质谱仪等仪器进行分析和测量。常见的洁净室AMC污染物包括有机化合物、气体污染物(如氮氧化物、硫化物)和有害气体(如臭氧)。测试结果可以与行业标准和规范进行比较,以确定是否符合要求。因此,洁净室AMC测试是洁净室管理中的重要一环,有助于确保洁净室环境的全面控制和达到所需的洁净度水平。
AMC的种类有哪些?
如何解决洁净室空气质量问题?
SGS提供多种洁净室AMC检测服务模式:
- 委托SGS样品采集分析:客户没有现场采样设备及采样经验,可以委托SGS到现场进行采样与分析,避免采样过程中的失误和污染。
- 自行样品采集后委托SGS分析:SGS协助客户建立采样能力,优化时间和成本。
- 样品采集打包方案:SGS提供采样设备租借、采样教育训练课程和采样能力建置打包方案,以满足不同客户的需求。
SGS洁净室AMC检测服务项目:
- MA、MB酸性与碱性空降分子污染采样与分析
- MC可沉降物质及有机气体分子采样与分析
- MD参杂性空降分子污染采样与分析
- MM金属空降分子污染采样与分析
- 硫化物分子污染采样与分析
- 高效滤网及化学滤网过滤效率分析
- AMC污染解决方案
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