干货分享 | 半导体行业对电子级超纯水的要求有多严格？

水分子H₂O，占地表面积的70%，是人类能够生存在地球上的最重要因素之一。我们日常所使用的水可能来源于海水、河水、湖水、雨水、地下水等，经过净化后得以使用。随着科技工业的发展，水质在科技工业上的应用要求也愈发严苛，甚至远超我们日常饮用的饮用水及包装水的标准，有的高达数十倍到百倍以上。

科技工业对水质的要求因其应用领域而异。不同科技领域根据生产过程中水质对产品的影响，制定了不同的水质标准，允许的杂质种类和浓度也各不相同。

半导体制程与超纯水
在半导体制造领域，对水质的要求尤为严格。为了满足这种严苛的水质要求，半导体制造业所使用的水被称为电子级水或超纯水。这种水中几乎不允许存在任何杂质，包括但不限于颗粒、金属、离子、有机物和细菌等。为了达到如此严格的水质要求，在制造超纯水的工艺上必须十分精细，以去除各种杂质。

如何制备超纯水？
超纯水的制造工艺通常包括以下几种：

• 预处理设备
• 软水器
• 反渗透主机
• 185nm UV灯
• 活性炭塔
• RO 储水箱
• 离子交换混床设备或EDI设备
• 纯化储水箱箱
• 254nm UV 灯
• 微孔过滤器 (超滤膜)

超纯水水质标准
在半导体行业中，常用的水质标准包括：

• GB/T 11446-2013 电子级水标准
• GB/T 33087-2016 仪器分析用高纯水规格及试验方法
• GB/T 6682-2008/ ISO 3696分析实验室用水规格和试验方法
• ASTM D1193-06(2018)  试剂水标准规范
• ASTM D5127-07 电子学和半导体工业用超纯水标准指南
• SEMI F63:2021 Guide for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing

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